ВАКУУМНО-ДУГОВАЯ УСТАНОВКА ВДНУ
Установка предназначена для нанесения функциональных (износостойких, антикоррозионных, термостойких, антифрикционных, антиэмиссионных, защитных и др.) покрытий на крупногабаритные элементы космической техники (трубы, листы, антенны и пр.). Она обеспечивает вакуумную откачку, нагрев и финишную ионную очистку напыляемых изделий, генерацию газовой среды, требуемой для проведения технологических процессов напыления, нанесение покрытий на три вида изделий:
– трубы длиной от 1 м до 3 м, диаметром от 10 мм до 60 мм с максимальной загрузкой 40 штук,
–листы размерами 2м х 1м, с максимальной загрузкой 5 штук,
– антенны диаметром до 2 м.
Технические характеристики ВДНУ | |
Вакуумная камера (нержавеющая сталь, водоохлаждаемая): | |
внутренний диаметр, мм | 2400 |
внутренняя длина, мм | 4400 |
Вакуумная откачка (на основе криосорбционных насосов) | |
Вакуумно-дуговая напылительная установка ВДНУ | 5x10-4 |
время откачки до предельного остаточного давления, час | 1 |
Внутрикамерный нагрев изделий (с возможностью регулировки): | |
максимальная мощность, кВт | 55 |
максимальная температура нагрева изделий, °С | 400 |
Система подачи технологических газов: | |
(4 канала), см3/мин | 0-1000 |
Механизмы внутрикамерного перемещения изделий: | |
держатель для труб (длиной до 3 м, диаметром до 60мм), обеспечивающий их планетарное внутрикамерное перемещение, | |
держатель для листов (длиной до 2 м, шириной до 1 м) обеспечивающий их внутрикамерное вращение, | |
держатель для антенны (диаметром до 2 м) обеспечивающий ее внутрикамерное вращение. | |
Система источников ионной очистки изделий: 11 источников ионной очистки с возможностью регулировки ионного тока и ускоряющего напряжения | |
ток ионного пучка, мА | 150 ± 30 |
рабочее ускоряющее напряжение, кВ | 1 - 4 |
Система электродуговых источников металлической плазмы (11 электродуговых источников с возможностью регулировкитока дуги и распределения плазменного потока): | |
рабочий ток, А | 40 - 130 |
рабочее напряжение, В | 25 - 35 |
Источник импульсного напряжения смещения, подаваемого на изделие: | |
напряжение импульса, В | 0 - 1000 |
ток импульса, А | 0 - 70 |
частота следования импульсов, Гц | 25 - 25000 |
коэффициент заполнения импульса, % | 5 - 50 |
Система общего электропитания и управления установкой: | |
программно-логическое управление вакуумной | |
откачкой, работой ионных и дуговых источников, | |
возможность компьютерного управления установкой. | |
максимальная потребляемая мощность, кВт | 150 |
максимальный расход воды, м3 /час | 6,2 |
Публикации:
1. В.В. Иванов, Д.А. Карпов, В.А. Крылов, В.М. Лисичкин, В.Я. Моисеев, С.Г. Саксаганский, А.А. Филиппов, Ren Ni, Ma Zhanji, Вакуумно-дуговая напылительная установка ВДНУ (разработка, изготовление, эксперименты). Вопросы атомной науки и техники, серия «Электрофизическая аппаратура», СПб.: НПО «Профессионал», 2005, Вып.3(29), стр. 116-125.
Поставки:
Название продукта | Год поставки | Заказчик | страна |
Вакуумно-дуговая напылительная установка ВДНУ | 2004 | Всекитайская импортно-экспортная компания точного машиностроения | Китай |