Акционерное общество
«НИИЭФА им. Д.В. Ефремова»
Акционерное общество
«НИИЭФА им. Д.В. Ефремова»
О компании Контакты Вакансии Новости Противодействие коррупции и хищениям Поставщикам Экологическая безопасность Охрана труда Торги имущества ПСР
 

ЭЛЕКТРОННО-ЛУЧЕВАЯ УСТАНОВКА "ЦЕФЕЙ" ДЛЯ ЭНЕРГОЕМКИХ ВАКУУМНЫХ ТЕХНОЛОГИЙ И ИСПЫТАНИЙ

Стенд "Цефей" предназначен для генерации высоких тепловых потоков, создаваемых ускоренным электронным пучком, которые можно прикладывать к различным объектам, размещаемым в высоком вакууме.

ЭЛЕКТРОННО-ЛУЧЕВАЯ УСТАНОВКА "ЦЕФЕЙ"
ЭЛЕКТРОННО-ЛУЧЕВАЯ УСТАНОВКА "ЦЕФЕЙ"

Применение:

  • испытания энергонагруженных компонент;
  • вакуумная плавка металлов;
  • осаждение покрытий термическим испарением с сопутствующей обработкой электронами или ионами;
  • вакуумные технологические процессы, требующие быстрого нагрева и охлаждения.

Характерными особенностями стенда являются:

  • совместимость с бериллием;
  • совместимость с жидкими металлами;
  • наличие жидкометаллического (Na-K) контура охлаждения.

Для диагностики пучка и объекта используются:

  • видеокамера;
  • инфракрасная камера;
  • оптические пирометры;
  • термопары;
  • датчики давления;
  • вакууметрические и масс-спектрометрические приборы;
  • компьютерная регистрация и обработка данных.

Технические характеристики:Значения
Максимальная мощность в пучке:, кВт 100
Энергия электронов:, кэВ 20-30
Максимальная плотность потока:, МВт/м² 400
Длительность нагружения:, сек 0.001 - бск.
Максимальный размер поля облучения в растре:, мм² 40x400
Частота сканирования:, Гц 1000
Объем высоковакуумной камеры:, м³ 3
Фоновое давление:, Торр 10-6
Параметры водяной системы охлаждения:  
Давление, Па 16
Скорость потока, л/с 1.5
Температура, °C 10-80

 
© 2004-2018, НИИЭФА им. Д.В.Ефремова, ОИТ. English version Яндекс.Метрика